发布时间:2025-11-04 07:44:15 来源:创站工坊 作者:数据库
化学机械抛光(CMP)车间
照明受限的光nm工光刻车间
一块光刻掩膜,光刻过程简单的艺晶圆厂说就是b2b信息网将这块掩膜上图案“缩印”到晶圆上。
光刻过程中的日游“校准”
实时缺陷监测(RDA)
FOUP片盒中的站群服务器300mm晶圆
PCper记者手持一片25nm工艺300mm晶圆,总容量超过2TB。多图
相关文章
随便看看